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等离子体化学气相沉积

产品型号:PECVD-C200

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产品介绍
技术参数

一种利用射频激发气体形成等离子体,在基底表面沉积薄膜的分析仪器。

可制备各种金属膜、无机膜和有机膜,在半导体制造、太阳能电池、涂层技术、显示面板等领域都有着广泛的应用。

1.包括一个传片腔和一个反应腔。传片腔内配置了一个单臂真空机械手,容纳2个卡匣,每个卡匣可装载25片8寸或6寸晶圆。反应腔内有6个晶圆放置站,其中5个沉积站,1个传片站。

2.配置的气箱可配置8路气路,包含了沉积工艺气体和清洁气体。可沉积SiO2, SiN薄膜。

3.人机界面交互方便,易操作。&nbs

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