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RIE150-1反应离子刻蚀系统

产品型号:RIE150-1

产品品牌:APEX

产品类别:反应离子刻蚀

专为 6英寸(150mm)晶圆/基片设计的紧凑型干法刻蚀系统

产品介绍
技术参数
该设备融合 射频等离子体激发 与 离子定向轰击 技术,实现微米至亚微米级图形的各向异性刻蚀,满足半导体、MEMS、光电子等领域新材料与新工艺的研发需求。此款6英寸桌面RIE以 “科研精度、工业可靠” 为核心理念,通过 定向离子能量控制 解决微结构陡直度需求,凭借 全防腐腔体+智能配方管理 实现多材料兼容,为实验室提供 替代大型产线设备 的桌边干法刻蚀解决方案,显著降低研发门槛与周期

刻蚀均匀性:≤±5%(6英寸圆片);

刻蚀速率:0.1~4μm/min(视具体材料与工艺);

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