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手动单面曝光机

产品型号:MZW-MAEP-24A

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产品介绍
技术参数
一款高精度单面接触式曝光系统,用于半导体分立器件芯片制造,对位精度±1um,一般用于如二极管、三极管、MOS管、可控硅等分立器件等制造。

曝光模式:底吹接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光,以及接近式曝光四种功能

适用晶片厚度:0.1mm--3mm(最大可扩展为15mm)

光源类型:UVLED*1,中心波长365nm

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