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高精密单面光刻机

产品型号：G-25D4

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产品介绍

技术参数

针对各高校及科研单位对光刻机的使用特性研发的一种精密光刻机，采用气浮找平技术可有效补偿片的楔形误差所产生的版片接触不良，使曝出的线条更优，减小因找平力过大而产生版的严重擦伤,它主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。

曝光类型：单面

曝光面积:110×110mm

曝光强度不均匀性：3%

曝光强度：≤30mw/cm2，可调范围10%～100%；

紫外光中心波长：365nm；

曝光分辨率：1μm；

套刻精度：1μm；

曝光方式：密着曝光，可实现硬接触、软接触和微力接触曝光；

找平方式：气浮找平；